【摘要】本发明涉及一种光学纯手性α-羟基烷基羧酸的制备方法,包括以下步骤:将羟基烷基酸与具有紫外吸收的化合物在二氯甲烷溶剂、缩合剂和有机碱的条件下进行经缩合反应、经手性柱拆分、经碱性条件水解去衍生化得到光学纯手性α-羟基烷基羧酸。本发明工艺
【摘要】 本发明涉及电子元件技术领域,尤其是一种贴片电阻,包括基片,基片上下两边间隔对应排列设有电极,基片内部设有玻璃绝缘层,所述的基片左右两边的电极外侧与基片边缘设有空隙。本发明贴片电阻,结构简单、性能可靠,不易造成连焊和短路,电阻边缘电极与中间电极导电度一致性好,使其厚度相同,产品品质均一,有效提高产品整体性能。 【专利类型】发明申请 【申请人】常州市武进华瑞电子有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】213000 江苏省常州市武进区南夏墅街道港桥村 【申请人地区】中国 【申请人城市】常州市 【申请人区县】武进区 【申请号】CN201210260203.5 【申请日】2012-07-26 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103578668A 【公开公告日】2014-02-12 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】H01C1/14 【发明人】丁瑞荣 【主权项内容】一种贴片电阻,包括基片(1),基片(1)上下两边间隔对应排列设有电极(2),基片(1)内部设有玻璃绝缘层,其特征是,所述的基片(1)左右两边的电极(2)外侧与基片边缘设有空隙。 【当前权利人】常州市武进华瑞电子有限公司 【当前专利权人地址】江苏省常州市武进区南夏墅街道港桥村 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】913204127185890881 【被引证次数】1 【被他引次数】1.0 【家族被引证次数】1
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