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射频等离子的透明导电膜专利

时间:2026-07-04    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本实用新型提供一种射频等离子的透明导电膜,基材为PET膜,PET膜的正面涂有硬化涂层,硬化涂层表面覆有PE保护膜;PET膜的背面形成有RF等离子处理层,RF等离子处理层上溅镀有透明导电层,透明导电层上覆有PE保护膜。该透明导电薄膜在结构上减省了一层硬化涂层,却增加了RF等离子处理层,使透明导电层与PET薄膜间仍有可靠的附着效果,即使经过高温回火后电阻值仍然具有可以保持均匀稳定的优异特性,可广泛应用于触控面板、电子游戏机、幼儿教学机、智能手机、平板电脑等方面。 【专利类型】实用新型 【申请人】苏州禾盛新型材料股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】215021 江苏省苏州市工业园区后戴街108号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请人区县】吴中区 【申请号】CN201020672761.9 【申请日】2010-12-21 【申请年份】2010 【公开公告号】CN201936636U 【公开公告日】2011-08-17 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN201936636U 【授权公告日】2011-08-17 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】H01B5/14 【发明人】汪倩文; 武俊 【主权项内容】射频等离子的透明导电膜,基材为PET膜,其特征在于:所述PET膜的正面涂有硬化涂层,硬化涂层表面覆有PE保护膜;所述PET膜的背面形成有RF等离子处理层,RF等离子处理层上溅镀有透明导电层。 【当前权利人】苏州禾盛新型材料股份有限公司 【当前专利权人地址】江苏省苏州市工业园区后戴街108号 【专利权人类型】股份有限公司 【统一社会信用代码】91320000743904529Q

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