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针对合成接合线的方法及系统专利

时间:2026-06-26    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 使用多种方法实现用于集成电路的接合线。使用如下方法制造一种合成接合线以供在集成电路中使用。将导电材料熔化并且与尺寸小于100微米的粒子的材料混合,以产生混合物。使用混合物来制成合成接合线。还提供了一种具有内芯以及外层的合成线,其中外层具有比内芯更高的传导率。将外层设计为比承载AC信号的工作频率上的趋肤深度更厚。 【专利类型】发明申请 【申请人】台湾积体电路制造股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200780019026.9 【申请日】2007-05-25 【申请年份】2007 【公开公告号】CN101454898B 【公开公告日】2011-11-02 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN101454898B 【授权公告日】2011-11-02 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】H01L23/49; C22C1/10; C22C32/00 【发明人】克里斯·维兰德 【主权项内容】一种合成接合线,用于在集成电路中对集成电路的部件进行电连接,所述合成接合线包括:具有传导率并用于形成内部部分的材料;以及导电材料,具有比所述内部部分高的传导率,并用于形成包围所述内部部分的外层,其中导电材料外层的厚度约大于趋肤深度,所述趋肤深度是根据要施加到合成接合线的电信号的期望频率来确定的。 微信 【当前权利人】台湾积体电路制造股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号 【家族引证次数】13.0

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