【摘要】本发明实施例公开了一种镀氮化硅减反射膜的方法,包括:向炉管充氮气,将插有硅片的石墨舟放进该炉管;保持炉内温度c1;进行压力测试,保证压力恒定;氨气吹扫及预沉积,温度为c1,氨气体积为4~5L,射频功率为2000~3000w,时间为1
【摘要】 本实用新型涉及一种真空度调节控制器,其特征是它包括T型三通、外筒、内管和支垫,外筒套在内管上,在外筒内的内管的一端设有一密封圈,在内管的另一端设有支撑片;在与支撑片对应的外筒一端上设有外撑片,T型三通连接在外筒的另一端;支垫设在支撑片和外撑片中间;在靠近T型三通连接处的外筒上设有2个以上小孔。本实用新型具有结构合理、操作方便、生产容易、能有效地调节和控制真空度的优点。 【专利类型】实用新型 【申请人】无锡贝塔医药科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214401 江苏省江阴市澄江中路159号江阴高新科技创业园D座210室 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】江阴市 【申请号】CN201020266720.X 【申请日】2010-07-22 【申请年份】2010 【公开公告号】CN201788422U 【公开公告日】2011-04-06 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN201788422U 【授权公告日】2011-04-06 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】G05D16/06 【发明人】李刚 【主权项内容】一种真空度调节控制器,其特征是它包括T型三通(1)、外筒(2)、内管(3)和支垫(4),外筒(2)套在内管(3)上,在外筒(2)内的内管(3)的一端设有一密封圈(3.1),在内管(3)的另一端设有支撑片(3.2);在与支撑片(3.1)对应的外筒(2)一端上设有外撑片(2.1),T型三通(1)连接在外筒(2)的另一端,;支垫(4)设在支撑片(3.2)和外撑片(2.1)中间;在靠近T型三(1)通连接处的外筒(2)上设有2个以上小孔(2.2),小孔(2.2)的直径为相邻两小孔(2.2)的间距L=3~7mm;支垫(4)的高度H=W+M+(N‑1/2)L,其中M=内管(3)完全插入外筒(2)后内管(3)的支撑片(3.2)与外筒(2)的外撑片(2.1)的间距,W为与离外筒(2)连接T型三通(1)端最近的小孔(2.2)到外筒(2)该端处的距离,N为用于与大气相通的小孔(2.2)的个数。FSA00000200096900011.tif 【当前权利人】无锡贝塔医药科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省江阴市澄江中路159号江阴高新科技创业园D座210室 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】91320281682976544B 【被引证次数】2 【被自引次数】2.0 【家族被引证次数】2
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