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晶片清洗自动脱水机专利

时间:2026-06-04    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本实用新型属于晶片处理设备领域,尤其是一种晶片在清洗完成后进行脱水的晶片清洗自动脱水机。它包括机箱,机箱内设有驱动机构,一电源开关以及时间继电器与驱动机构连接并控制其工作,机箱内还设有转盘与驱动机构连接,转盘上设有若干网篮,机箱侧面设有用于排水的放水管。本实用新型的有益效果是杜绝了无水乙醇脱水的安全隐患,提高了晶片清洗的质量和烘干效率。 【专利类型】实用新型 【申请人】常州松晶电子有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】213034 江苏省常州市高新区百丈工业园创业东路11号 【申请人地区】中国 【申请人城市】常州市 【申请人区县】新北区 【申请号】CN201020686947.X 【申请日】2010-12-29 【申请年份】2010 【公开公告号】CN202024573U 【公开公告日】2011-11-02 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN202024573U 【授权公告日】2011-11-02 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】F26B5/08; F26B25/02 【发明人】任先林; 刘杰 【主权项内容】晶片清洗自动脱水机,其特征在于:它包括机箱,机箱内设有驱动机构,一电源开关以及时间继电器与驱动机构连接并控制其工作,机箱内还设有转盘与驱动机构连接,转盘上设有若干网篮,机箱侧面设有用于排水的放水管。 【当前权利人】常州松晶电子有限公司 【当前专利权人地址】江苏省常州市高新区百丈工业园创业东路11号 【专利权人类型】有限责任公司(自然人独资) 【被引证次数】1 【被他引次数】1.0 【家族被引证次数】1

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