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硅片镀膜载板专利

时间:2026-06-03    作者:admin 点击: ( 2 ) 次

【摘要】 。本实用新型涉及硅片镀膜设备技术领域,特别是一种硅片镀膜设备内的镀膜载板,在载板的前端与后端分别安装一条垂直载板前进方向的匀流条,匀流条高出载板的上端和下端。匀流条的安装可以显著的降低载板前后端色差片的产生;同时匀流条的安装增加了石墨载板的强度,使载板更加平稳的运行于设备中,降低设备发生故障的几率。 【专利类型】实用新型 【申请人】常州天合光能有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】213031 江苏省常州市新北区电子产业园天合路2号 【申请人地区】中国 【申请人城市】常州市 【申请人区县】新北区 【申请号】CN201020548045.X 【申请日】2010-09-29 【申请年份】2010 【公开公告号】CN201793736U 【公开公告日】2011-04-13 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN201793736U 【授权公告日】2011-04-13 【授权公告年份】2011.0 【发明人】张瞩君 【主权项内容】一种硅片镀膜载板,其特征是:在载板(1)的前端与后端分别安装一条垂直载板前进方向的匀流条(2),匀流条(2)高出载板的上端和下端。 【当前权利人】常州天合光能有限公司 【当前专利权人地址】江苏省常州市新北区电子产业园天合路2号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91320411608131455L 【被引证次数】1 【被他引次数】1.0 【家族被引证次数】1

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