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氧化还原电位杀菌水及其制备方法专利

时间:2026-06-01    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明涉及一种氧化还原电位杀菌水及其制备 方法, 它主要由水为主原料, 副以中性化合物, 经氧化还原、调pH 而成, 它是具有下述主要技术性能指标消毒水 : 氧化还原电位在 1100MV以上, pH值在2.3—2.7以内, 氯化物在5PPM以内, 中性 化合物在10PPM以内。它成本低廉, 使用安全简便, 应用范围广 泛, 消毒后4小时内见光可还原成自来水, 不存在核酸的基因变 异, 无任何残留物, 对人体和动物无蓄积毒性, 对环境无污染, 使 用后无毒副作用。 【专利类型】发明申请 【申请人】熊军 【申请人类型】个人 【申请人地址】100027北京市朝阳区东三环北路幸福大厦B座2608号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN98123352.X 【申请日】1998-12-15 【申请年份】1998 【公开公告号】CN1219508A 【公开公告日】1999-06-16 【公开公告年份】1999 【IPC分类号】C02F1/461 【发明人】熊军 【主权项内容】1、一种氧化还原电位杀菌水,它主要由水为主原料,副以中性化合物, 经氧化还原、调PH而成,其特征在于它是具有下述主要技术性能指标的消毒 水: ①氧化还原电位在1100MV以上, ②PH值在2.3-2.7以内, ③氯化物在5PPM以内, ④中性化合物在10PPM以内。 【当前权利人】熊军 【当前专利权人地址】北京市朝阳区东三环北路幸福大厦B座2608号 【被引证次数】3.0 【被他引次数】3.0 【家族被引证次数】3.0

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