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振动片溢铸量的修正方法专利

时间:2026-06-01    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 一种振动片溢铸量的修正方法,其首先以一直流 电源电铸——镀薄层一第一特定时间;再以一交流电源电铸该 镀薄层一第二特定时间,以形成该振动片,接着,依据一凸出 岛的设计,在非凸出岛的区域涂上光阻剂,在振动片上;最后, 以该交流电源进行电铸一第三特定时间,以于凸出岛的区域, 产生该凸出岛,并阻止该凸出岛向外溢铸。 【专利类型】发明申请 【申请人】大霸电子股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】台湾省台北市土城市自强街29号 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN98107150.3 【申请日】1998-03-04 【申请年份】1998 【公开公告号】CN1227791A 【公开公告日】1999-09-08 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN1094835C 【授权公告日】2002-11-27 【授权公告年份】2002.0 【IPC分类号】B41J2/16 【发明人】莫自治; 邱茂展 【主权项内容】1.一种振动片溢铸量的修正方法,其特征在于:包含下列步骤: 以一直流电源电铸一镀薄层一第一特定时间; 以一交流电源电铸该镀薄层一第二特定时间,以形成该振动片; 依据该振动片上一凸出岛之设计,在一非凸出岛的区域涂上光阻剂;以 及 以该交流电源进行电铸一第三特定时间,以於一凸出岛的区域,产生该 凸出岛。 【当前权利人】大霸电子股份有限公司 【当前专利权人地址】台湾省台北市土城市自强街29号 【家族引证次数】8.0

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