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用于空燃比传感器上的氧敏薄膜及其制备方法专利

时间:2026-05-27    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明公开了一种用于空燃比传感器上的氧敏 薄膜及其制备方法。本发明的氧敏薄膜是以α-Al2O3陶瓷薄片为基片, 其上涂覆材料为金红石晶型TiO2与TinO2(3≤n≤10)晶相的复合相的TiOX薄膜。该氧敏薄膜制备过程, 包括盐溶液的配制, 溶液络合溶胶化, 在基片上涂制薄膜及薄膜热处理。这种氧敏薄膜具有良好温度稳定性和灵敏性, 它的制备原料广, 价格低, 为国内汽车发动机配置空燃比传感器开拓了新途径。 : 【专利类型】发明申请 【申请人】天津大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】300072天津市南开区卫津路92号 【申请人地区】中国 【申请人城市】天津市 【申请人区县】南开区 【申请号】CN98123156.X 【申请日】1998-12-11 【申请年份】1998 【公开公告号】CN1225452A 【公开公告日】1999-08-11 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN1103448C 【授权公告日】2003-03-19 【授权公告年份】2003.0 【IPC分类号】G01N27/26; G01N27/12; G01N27/409 【发明人】徐明霞; 徐廷献 【主权项内容】1.一种用于空燃比传感器上的氧敏薄膜,它是在一种基片上涂复TiOx(1<x≤2)薄膜 构成,其特征在于,基片为α-Al2O3陶瓷薄片,薄膜材料为金红石晶型TiO2与TinO2(3≤ n≤10)晶相的复合相。 【当前权利人】天津大学 【当前专利权人地址】天津市津南区海河教育园区雅观路135号天津大学北洋园校区 【统一社会信用代码】12100000401359321Q 【被引证次数】3.0 【被他引次数】3.0 【家族被引证次数】3.0

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