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“准球面型”微型气敏传感器及其制备方法专利

时间:2026-05-27    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 “准球面型”微型气敏传感器及其制备方法, 包括 硅片1, 在硅片1上部有一基础层2, 在基础层2与隔离层4之间 的加热测温电极3, 叉指电极5制作在隔离层4上, 敏感薄膜6覆 盖住叉指电极5, 在硅片1与基础层2之间为一准球面型的空间7, 在隔离层4上有小孔8与准球面型的空间7相通。本发明采用牺 牲层技术制备“准球面型”膜片, 膜片的机械强度比平面型的要 大, 不易产生应力, 制作工艺简单。。-官网 【专利类型】发明申请 【申请人】中国科学院电子学研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】100080北京市中关村路17号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN98101622.7 【申请日】1998-04-22 【申请年份】1998 【公开公告号】CN1232966A 【公开公告日】1999-10-27 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN1093636C 【授权公告日】2002-10-30 【授权公告年份】2002.0 【IPC分类号】G01N27/12; H01L49/00 【发明人】李建平 【主权项内容】1、“准球面型”微型气敏传感器及其制备方法,包括硅片1,在硅 片1上部有一基础层2,在基础层2与隔离层4之间的加热测温电极 3,叉指电极5制作在隔离层4上,敏感薄膜6覆盖住叉指电极5,其特 征是在硅片1与基础层2之间为一空隙7,在隔离层4上有小孔8与空 隙7相通。 【当前权利人】中国科学院电子学研究所 【当前专利权人地址】北京市中关村路17号 【统一社会信用代码】12100000400012406C 【被引证次数】7.0 【被他引次数】7.0 【家族被引证次数】7.0

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