【摘要】光刻机相位光栅离轴照明光学系统，属于半微米 至深亚微米光刻机离轴照明光学系统技术领域。其特征是聚光 镜与掩模板之间是一个与掩模面平行的相位光栅板，它的上下 表面分别刻有线宽相同、刻蚀深度相同的方向互相垂直线形光 栅，光栅方向与掩模图
【摘要】 本发明是关于一种消除脚臭的粉末, 它是由苯甲 酸或尼泊金酯5—30%, 硼酸5—30%, 氧化锌0.5—2%, 滑石粉或 沉淀法白碳黑40—87%组成的可喷雾的散剂, 本发明具有对皮 肤无损伤, 也不影响皮肤的排泄功能的特点, 使用时只要将散剂 布于鞋内即可达到抑制细菌生长、消除脚臭的效果, 且安全、可 靠、长效。。微信 【专利类型】发明申请 【申请人】熊德举 【申请人类型】个人 【申请人地址】610041四川省成都市武侯祠大街262号1幢2单元4号 【申请人地区】中国 【申请人城市】成都市 【申请人区县】武侯区 【申请号】CN98111962.X 【申请日】1998-04-20 【申请年份】1998 【公开公告号】CN1232664A 【公开公告日】1999-10-27 【公开公告年份】1999 【IPC分类号】A61K7/32 【发明人】熊德举 【主权项内容】1、一种消除脚臭的粉末，由有效成份和添加剂两部份组成，其特征在于有效成 份为苯甲酸或尼泊金酯的一种或其混合物，含量为5-30％，硼酸5-30％，氧化 锌0.5-2％，添加剂为滑石粉或沉淀法白碳黑的一种或其混合物，含量为40 -87％，将上述组分混合制成100目或更细的可喷雾的散剂即得成品。 【当前权利人】熊德举 【当前专利权人地址】四川省成都市武侯祠大街262号1幢2单元4号 【被引证次数】2.0 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】2.0
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