【摘要】 光刻机相位光栅离轴照明光学系统，属于半微米 至深亚微米光刻机离轴照明光学系统技术领域。其特征是聚光 镜与掩模板之间是一个与掩模面平行的相位光栅板，它的上下 表面分别刻有线宽相同、刻蚀深度相同的方向互相垂直线形光 栅，光栅方向与掩模图形方向一致。相位光栅板结构简单，取 放方便，实用范围大，照明均匀性好，光能量利用率高，变三 束光为两束光成像，提高光刻分辨力和焦深，适合大规模生产。 【专利类型】实用新型 【申请人】中国科学院光电技术研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】610209四川省成都市双流350信箱 【申请人地区】中国 【申请人城市】成都市 【申请人区县】双流区 【申请号】CN98229439.5 【申请日】1998-09-03 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2352974Y 【公开公告日】1999-12-08 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2352974Y 【授权公告日】1999-12-08 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】G03F7/20 【发明人】罗先刚; 姚汉民; 陈旭南 【主权项内容】1．光刻机相位光栅离轴照明光学系统，光源(1)的光经 集光镜(3)、积分镜(4)和聚光镜(7)等照射到掩模上，被照明 的掩模图形通过光刻物镜(10)投影成像于硅片(11)上，其特征 在于在聚光镜(7)与掩模板(9)之间是一个与掩模面平行的相位 光栅板(8)，其光栅方向与光刻图形方向一致，相位光栅板(8)的 上下表面分别刻有线宽相同、刻蚀深度相同的线形光栅，且上下光 栅方向垂直。。 【当前权利人】中国科学院光电技术研究所 【当前专利权人地址】四川省成都市双流350信箱 【统一社会信用代码】12100000450811820A 【被引证次数】3.0 【被他引次数】3.0 【家族被引证次数】3.0

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