【摘要】 本实用新型是光刻机环形光栅离轴照明光学系 统, 属于半微米至深亚微米光刻机离轴照明光学系统技术领 域。其特征是在聚光镜与掩模板之间有一个与掩模面平行的环 形光栅板, 它是由在石英基片上刻有间隔不同、深度相同的同心 圆环构成。环形光栅板结构简单, 制作方便, 只需一次放置, 能量 利用率高, 均匀性好, 对不同特征线宽的各种掩模图形光刻分辨 力和焦深均提高25%以上, 实用范围宽, 适合大规模生产。 【专利类型】实用新型 【申请人】中国科学院光电技术研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】610209四川省成都市双流350信箱 【申请人地区】中国 【申请人城市】成都市 【申请人区县】双流区 【申请号】CN98229440.9 【申请日】1998-09-03 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2351772Y 【公开公告日】1999-12-01 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2351772Y 【授权公告日】1999-12-01 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】G03F7/20 【发明人】罗先刚; 姚汉民; 陈旭南; 王肇志 【主权项内容】1、光刻机环形光栅离轴照明光学系统，光源(1)的光经 椭球镜(2)、集光镜(3)、积分镜(4)、聚光镜(5)、反射镜(6) 和聚光镜(7)照射到掩模上，被照明的掩模图形通过光刻物镜(10) 投影成像于硅片(11)上，其特征在于在聚光镜(7)与掩模(9) 之间是一个与掩模面平行的环形光栅板(8)，环形光栅板(8)是由 在石英基片上刻满至少一组间隔不同、深度相同的同心圆环光栅图 形构成。 微信 【当前权利人】中国科学院光电技术研究所 【当前专利权人地址】四川省成都市双流350信箱 【统一社会信用代码】12100000450811820A 【被引证次数】3.0 【被他引次数】3.0 【家族被引证次数】3.0

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