【专利类型】外观设计【申请人】联想集团公司【申请人类型】企业【申请人地址】100080北京市海淀区科学院南路10号【申请人地区】中国【申请人城市】北京市【申请人区县】海淀区【申请号】CN98302005.1【申请日】1998-04-27【申

【摘要】本发明涉及碳碳双键环氧化反应的方法, 即含有 碳碳双键的烯烃化合物在多氟或全氟烷基磺酰氟RfSO2FH2O2碱的条件下反应得到相应的环氧化合物的方法。在常温条件下, 将溶于有机溶剂的含有碳碳双键的烯烃化合物与多氟或全氟烷基磺酰氟Rf

【摘要】本实用新型涉及多用途连锁阀。该阀包括上阀 体、下阀体、介质进出口、及置于上阀体上端下面有至少一个 弧形凹槽的旋转控制盘，下阀体至少有两个阀口和至少有两个 上端与旋转控制盘上弧形凹槽相配合、下端置于下阀体阀口内 的弹簧上，在上阀体内上

【摘要】一种特殊结构胶合板, 由木质表板、芯板和层积长 芯板组成。与普通胶合板不同, 这种特殊结构胶合板的层积长芯 板, 是由若干层短单板顺纹层积而成。它兼备普通胶合板的幅面 宽、横向尺寸稳定和单板层积材的静曲强度大、弹性模量高的 特点,

【摘要】省略其它视图。【专利类型】外观设计【申请人】四川新形象艺术设计有限公司【申请人类型】企业【申请人地址】610017四川省成都市东珠市街23号【申请人地区】中国【申请人城市】成都市【申请号】CN98314380.3【申请日】1998-

【摘要】本实用新型是分辨力自增掩模板，属于对光刻机 光刻系统中掩模板结构的进一步改进。其特征是根据掩模板下 表面的掩模图形的形状和特征线宽，上表面刻蚀相应宽度和形 状相位光栅或图形，将产生离轴照明的相位光栅或图形与传统 掩模板结合为一体结构