【摘要】1.省略与主视图相同的后视图。 2.省略与左视图相同的右视图。 3.省略与俯视图相同的仰视图。【专利类型】外观设计【申请人】西昌攀西食品有限公司成都分公司【申请人类型】企业【申请人地址】610225四川省成都市机场路西南航空港开发区
【摘要】 亚微米光刻机光栅衍射同轴对准装置，属于对滤 波和照明结构的进一步改进。其特征是激光器发出的光经分光 镜，以水平方向射入胶接成滤波机构一体的小反射镜和反射棱 镜上，光刻机的光刻光和光栅标记的衍射光通过分区镀制各膜 系的滤波板，得到高透过和完全滤波。它方便装调，克服温度 影响，提高对准稳定性和对准信号质量，提高对准精度和套刻 精度。 【专利类型】实用新型 【申请人】中国科学院光电技术研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】610209四川省成都市双流350信箱 【申请人地区】中国 【申请人城市】成都市 【申请人区县】双流区 【申请号】CN98229441.7 【申请日】1998-09-03 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2352975Y 【公开公告日】1999-12-08 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2352975Y 【授权公告日】1999-12-08 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】G03F7/20 【发明人】陈旭南; 陈伟明; 郭永洪; 罗先刚 【主权项内容】1、亚微米光刻机的光栅衍射同轴对准装置，包括有光刻物镜、 光栅衍射空间滤波机构、以及对准照明，其特征在于激光器(11)发 出的线偏振光经分光镜(12)后，透射和反射两光束从物镜(5)外侧以 水平方向射入到小反射镜(3)和反射棱镜(4)上，分别以平行光垂直均 匀照明硅片(6)的相位光栅对准标记W1和W2，产生的衍射光在光刻 物镜(5)中按原方向返回，通过分区镀制各膜系的滤波板(2)后，得到 完全滤波的±1级对准衍射光，经分切板(15)在掩模板(16)的掩模面 EE上成象，并发生干涉。 【当前权利人】中国科学院光电技术研究所 【当前专利权人地址】四川省成都市双流350信箱 【统一社会信用代码】12100000450811820A 【被引证次数】14.0 【被自引次数】4.0 【被他引次数】10.0 【家族被引证次数】14.0
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