【摘要】本发明的低应力c－BN薄膜及其制备装置和制 备方法属物理气相沉积方法制备薄膜材料的领域。采用射频磁 控溅射加磁控弧光放电相结合的装置和工艺, 以h－BN为靶材, 在氮气、氩气气氛辉光放电中沉积c－BN薄膜。薄膜结构是在 基底与立方氮
【摘要】 反馈环流熄弧交流接触器，属于电器交流接触器 类；由底板、方形的装配壳体、装在壳体上端左侧的三个静触 头和右侧的三个静触头、壳体上端的灭弧罩、装在壳体上的两 组常闭辅助触点和两组常开辅助触点、装在壳体中的滑动架和 动磁铁、线圈和静磁铁、装在滑动架上端的三组动触头组成的； 六个动触头及下端面的银触片有中心孔，六个静触头有阶梯 孔，每个静触头的上端口内套有绝缘套；这种结构的动静触头 有反馈、自环流、自熄弧、动静触头不易发热、不易烧馈、使 用时间长的效果。 【专利类型】实用新型 【申请人】于永学 【申请人类型】个人 【申请人地址】130021吉林省长春市吉林工学院老干部退休科 【申请人地区】中国 【申请人城市】长春市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN98239790.9 【申请日】1998-12-25 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2355424Y 【公开公告日】1999-12-22 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2355424Y 【授权公告日】1999-12-22 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】H01H33/70 【发明人】于永学; 于喜凤; 王广毅; 阎占清; 孙占军; 孙金石 【主权项内容】： 1、一种反馈环流熄弧交流接触器，是由底板、方形的装配壳体、装在壳 体上端左侧的三个静触头和右侧的三个静触头、壳体上端的灭弧罩、装在 壳体上的两组常闭辅助触点和两组常开辅助触点、装在壳体中的滑动架和 动磁铁、线圈和静磁铁、装在滑动架上端的三组动触头组成的；其特征在 于： a、六个动触头及下端面的银触片有中心孔； b、六个静触头有阶梯孔；每个静触头的上端口内套有绝缘套。 【当前权利人】于永学 【当前专利权人地址】吉林省长春市吉林工学院老干部退休科 【被引证次数】2.0 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】2.0
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