【摘要】一种改进的发光二极管定位挡块结构, 包括一射 出成型或液注固设于发光二极管两支脚间的横挡块体, 其主要 改进的特色在于 : 其块体形成时在其支脚抗拒插件力量的适当 位置处设有局部胀大的阻隔部, 藉此, 使横挡块体可以短截方式 设于支
【摘要】 一种脱水槽之结构, 它主要系由一内、外槽组构而 成, 该外槽之周环分布有孔, 其底端设有数个锁合孔, 该锁合孔系 锁固一盘件, 盘件之中心处突设有一凸置块, 该凸置块之周环并 设有数个可与外槽锁合孔相固定之锁孔; 该内槽之周环为密布 之孔状, 其底端中心处向内凹设有扣合凹槽, 其上端外环处并套 置一弹性体; 内槽藉由扣合凹槽与盘件之凸置块结合固定, 本脱 水槽内、外槽固定牢靠, 不会发生碰撞。 【专利类型】实用新型 【申请人】杨秀英 【申请人类型】个人 【申请人地址】台湾省 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN98208386.6 【申请日】1998-09-16 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2340790Y 【公开公告日】1999-09-29 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2340790Y 【授权公告日】1999-09-29 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】D06F23/04; D06F23/00 【发明人】杨秀英 【主权项内容】1、一种脱水槽之结构,它主要系由一内、外槽组构而成,其特征在于:该 外槽之周环分布有孔,其底端设有数个锁合孔,该锁合孔系锁固一盘件,盘件之 中心处突设有一凸置块,该凸置块之周环并设有数个可与外槽锁合孔相固定之锁 孔;该内槽之周环为密布之孔状,其底端中心处向内凹设有扣合凹槽,其上端外 环处并套置一弹性体;内槽藉由扣合凹槽与盘件之凸置块结合固定。 【当前权利人】杨秀英 【当前专利权人地址】台湾省
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