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抛光装置专利

时间:2026-05-24    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本实用新型涉及一种抛光装置,该装置中包括有 一输送装置,多个抛光机组及一出料装置,其中,抛光机组在 输送装置两侧分别设置垂直抛光机与水平抛光机,输送装置将 工件送至各抛光机组作水平及垂直方向的抛光处理,待各段加 工面抛光完成后再由出料装置将工件送出,对于不规则形状的 工件,由于各抛光机组中抛光布轮高度的不同,而能对其加工 面作完整的抛光处理,不须增加额外的抛光程序。 【专利类型】实用新型 【申请人】蔡笃灿 【申请人类型】个人 【申请人地址】台湾省新竹市延平路三段667巷55弄10号 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN98250325.3 【申请日】1998-12-22 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2353485Y 【公开公告日】1999-12-15 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2353485Y 【授权公告日】1999-12-15 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】B24B29/00 【发明人】蔡笃灿 【主权项内容】1、一种抛光装置,其特征在于:包括输送装置,多个抛光机组,出料 装置,其中抛光机组中包括至少一垂直抛光布轮机与水平抛光布轮机,对 应设置于输送装置两侧,且上述多个抛光机组对应输送装置的不同高度, 出料装置设置于输送装置两侧。 【当前权利人】蔡笃灿 【当前专利权人地址】台湾省新竹市延平路三段667巷55弄10号 【被引证次数】2.0 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】2.0

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