【摘要】一种金属层间介电层包括 : 一阻挡层, 位于导线与 基底的上方; 以及一氟掺杂高密度等离子氧化层, 覆盖于该阻挡 层上。其制造方法包括 : 在集成电路结构上形成一缓冲层; 在缓 冲层上形成一阻挡层; 以及在阻挡层上形成一氟掺杂高密度
【摘要】 本发明是仿蜂巢设计的结构体系, 基本单元为六 边形平面, 每边的长度相等, 两边的角度相互为120°, 其基本特 征在于结体系由七个或七个以上六边形组成, 可以向任何方向 扩展形成大的结构体系。 【专利类型】发明申请 【申请人】陈长兴 【申请人类型】个人 【申请人地址】100073北京市丰台区丰台路60号大院1号楼3单元28号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】丰台区 【申请号】CN98103280.X 【申请日】1998-07-27 【申请年份】1998 【公开公告号】CN1207437A 【公开公告日】1999-02-10 【公开公告年份】1999 【IPC分类号】E04B1/16; E04B1/34 【发明人】陈长兴 【主权项内容】1、仿蜂巢设计的结构体系,基本单元为六边形平面,每边的 长度相等,两边的角度相互为120°,边柱搁置有两根或三根梁,边 柱突出时其上搁置两根梁,边柱缩进时其上搁置三根梁,中柱搁置 有三根梁,柱子采用圆形柱,其基本特征在于结体系由七个或七个 以上六边形组成,可以向任何方向扩展形成大的结构体系。 【当前权利人】陈长兴 【当前专利权人地址】北京市丰台区丰台路60号大院1号楼3单元28号 【被引证次数】6.0 【被他引次数】6.0 【家族被引证次数】6.0
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