【摘要】 一种绝缘基片上原位多孔氧化铝膜的制备方法，其特征在于步骤为：1)在绝缘基片上镀上一层厚度为100nm-10μm的光滑铝膜；2)将步骤1)中得到的镀有铝膜的基片，浸在草酸电解液中进行预阳极氧化；3)扫描阳极氧化：将步骤2)中经过预阳极氧化的基片，从电解槽中取出清洗去除吸附的草酸电解液；将电解槽的草酸电解液移出，将洗净的基片放回电解槽，然后用蠕动泵将移出的草酸电解液匀速泵回电解槽，保持电解槽中液面匀速上升，当电解液的液面从基片的底部匀速扫过整个预氧化基片后，基片上预氧化步骤中尚未氧化的残余铝层随着电解液的匀速上升，依次完成阳极氧化过程，从而在绝缘基片上获得均匀高质量的原位多孔阳极氧化铝膜层；4)氧化退火。本发明制备工艺简单、制造成本低，可以在各种形貌的绝缘基片上原位镀制大面积多孔阳极氧化铝膜。 【专利类型】发明申请 【申请人】中国科学院宁波材料技术与工程研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】315201 浙江省宁波市镇海区庄市大道519号 【申请人地区】中国 【申请人城市】宁波市 【申请人区县】镇海区 【申请号】CN201210323155.X 【申请日】2012-09-04 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103668381A 【公开公告日】2014-03-26 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN103668381B 【授权公告日】2016-03-09 【授权公告年份】2016.0 【IPC分类号】C25D11/04; C25D11/18; C23C14/14 【发明人】王彪; 许高杰 【主权项内容】一种绝缘基片上原位多孔氧化铝膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：1)镀铝膜：采用溅射或蒸发方法，在绝缘基片上镀上一层厚度为100nm-10μm的光滑铝膜；2)铝膜预阳极氧化：将步骤1)中得到的镀有铝膜的基片，浸在一定温度和浓度的草酸电解液中进行阳极氧化，当镀铝基片的铝层在最靠近氧化电解槽阳极的部位变得半透明，停止预阳极氧化；3)扫描阳极氧化：将步骤2)中经过预阳极氧化的基片，从电解槽中取出清洗，洗去基片吸附的草酸电解液；再将电解槽的草酸电解液移出，将洗净的基片放回电解槽，然后用蠕动泵将移出的草酸电解液匀速泵回电解槽，保持电解槽中液面匀速上升，当电解液的液面从基片的底部匀速扫过整个预氧化基片后，基片上预氧化步骤中尚未氧化的残余铝层随着电解液的匀速上升，依次完成阳极氧化过程，从而在绝缘基片上获得均匀高质量的原位多孔阳极氧化铝膜层；4)氧化退火：将步骤3)得到的样品洗干净后晾干，放入电炉中进行退火氧化，即获得在绝缘基片上镀制有原位多孔阳极氧化铝膜的样品。 【当前权利人】中国科学院宁波材料技术与工程研究所 【当前专利权人地址】浙江省宁波市镇海区庄市大道519号 【统一社会信用代码】121000007178168758 【引证次数】15.0 【被引证次数】12 【他引次数】15.0 【被他引次数】12.0 【家族引证次数】16.0 【家族被引证次数】12

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