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基于CII和色差的多墨打印机配方选择算法专利

时间:2026-10-07    作者:admin 点击: ( 1 ) 次

【摘要】 本发明公开了一种基于CII和色差的多墨打印机配方选择算法。该方法通过设计、打印、测量多组三墨和四墨组合的训练样本建立对应的反向和正向光谱模型实现预测目标光谱的多个候选墨水配方,进一步计算得对应的候选墨水配方的预测光谱,之后根据结合CII和色差的差异指数M,选择M值为最小的候选墨水配方作为最终配方。该算法结合CII和色差,很好的解决了多墨打印机配方的选择问题,精度高、速度快、适用性好,具有很高的实用价值。 【专利类型】发明申请 【申请人】岑夏凤 【申请人类型】个人 【申请人地址】315332 浙江省慈溪市附海镇花塘村三角田 【申请人地区】中国 【申请人城市】宁波市 【申请人区县】慈溪市 【申请号】CN201210595447.9 【申请日】2012-12-10 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103544334A 【公开公告日】2014-01-29 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN103544334B 【授权公告日】2016-06-22 【授权公告年份】2016.0 【IPC分类号】G06F17/50 【发明人】岑夏凤 【主权项内容】一种基于CII和色差的多墨打印机配方选择算法,其特征在于包括以下步骤:1)选取多墨打印机的n个墨水,根据选取的墨水,组成m组不同的三墨和四墨组合;2)对于每一组三墨或四墨的组合,设计并打印一定数量的训练样本,并用分光光度计测得每一个训练样本的光谱数据;3)对于每一组三墨或四墨的组合,根据测得的对应训练样本的光谱数据,建立相应的反向和正向光谱模型,共得到m×2个三墨或四墨的光谱模型。某一墨水组合的反向光谱模型的作用是根据目标光谱预测对应的墨水配方,即该墨水组合中各墨水的用量;而正向光谱模型则可根据墨水配方预测对应的光谱;4)根据已经建立的m个三墨或四墨的反向光谱模型,对于需要复现的一目标光谱进行预测,共可得到m个候选墨水配方;5)对计算得到的m个候选墨水配方,采用对应的正向光谱模型预测对应的光谱,共可得到m个候选墨水配方的预测光谱;6)计算每个预测光谱的CII以及与目标光谱之间的色差,之后计算对应的差异指数M,其计算公式如下:M=w1×CII+w2×ΔE其中,w1和w2是相应的权重系数,CII为某两种照明光源下的预测光谱的颜色非恒常性指数,ΔE为某种照明光源下的预测光谱与目标光谱之间的色差;7)根据每一个预测光谱的对于差异指数M,选择M值为最小的预测光谱所对应的候选墨水配方作为最终的配方,以达到准确复现目标光谱的目的。 【当前权利人】郑学农 【引证次数】5.0 【他引次数】5.0 【家族引证次数】5.0

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