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钽聚焦环的清洗方法专利

时间:2026-10-07    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明提供一种钽聚焦环的清洗方法,其具有至少两个清洗阶段,包括:第一清洗阶段,使用第一清洗剂对钽聚焦环进行至少一次清洗;第二清洗阶段,使用第二清洗剂对钽聚焦环进行至少一次清洗;其中,所述第一清洗剂为有机溶剂、第二清洗剂为酸性溶液。采用本发明的钽聚焦环的清洗方法,可以充分全面地去除油污、灰尘及杂质等,得到更好的清洗效果。 【专利类型】发明申请 【申请人】宁波江丰电子材料有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】315400 浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路198号 【申请人地区】中国 【申请人城市】宁波市 【申请人区县】余姚市 【申请号】CN201210303179.9 【申请日】2012-08-24 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103628079A 【公开公告日】2014-03-12 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】C23G1/10; C23G5/032; C23C14/34 【发明人】姚力军; 相原俊夫; 大岩一彦; 潘杰; 王学泽; 侯宇 【主权项内容】一种钽聚焦环的清洗方法,其特征在于,具有至少两个清洗阶段,包括:第一清洗阶段,使用第一清洗剂对钽聚焦环进行至少一次清洗;第二清洗阶段,使用第二清洗剂对钽聚焦环进行至少一次清洗;其中,所述第一清洗剂为有机溶剂、第二清洗剂为酸性溶液。 【当前权利人】宁波江丰电子材料股份有限公司 【当前专利权人地址】浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路 【引证次数】7.0 【被引证次数】5 【自引次数】1.0 【他引次数】6.0 【被他引次数】5.0 【家族引证次数】7.0 【家族被引证次数】5

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