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用于小型熔断器的灭弧玻璃制造方法专利

时间:2026-10-01    作者:admin 点击: ( 2 ) 次

【摘要】 本发明公开一种用于小型熔断器的灭弧玻璃制造方法,所述小型熔断器由两个接线端子、陶瓷片、熔体和灭弧玻璃层组成,所述灭弧玻璃层为一灭弧玻璃片,此灭弧玻璃片由硼硅酸铅玻璃组成,该灭弧玻璃片通过以下步骤获得:在所述灭弧玻璃片表面通过旋涂涂覆一压印胶层;将下表面具有若干微纳米直径的凸点的模具压在所述感光胶层上,通过热压法或者紫外感光法固化感光胶层;将步骤二中所述模具从涂覆感光胶层表面移除;采用干法离子刻蚀方法刻蚀经步骤三的所述灭弧玻璃片,从而在此灭弧玻璃片表面形成若干微纳米孔洞,此微纳米孔洞的直径为20~500nm。本发明灭弧玻璃制造方法获得的灭弧玻璃能实现较好的灭弧能力,并提供较高的绝缘阻抗。。 【专利类型】发明授权 【申请人】苏州晶讯科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】215163 江苏省苏州市高新区培源路2号苏州科技城微系统园M3栋4楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请人区县】虎丘区 【申请号】CN201210064531.8 【申请日】2012-03-13 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102610449B 【公开公告日】2014-08-06 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102610449B 【授权公告日】2014-08-06 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】H01H69/02 【发明人】冯波; 张甦; 龚建; 仇利明 【主权项内容】一种用于小型熔断器的灭弧玻璃制造方法,所述小型熔断器由两个接线端子、陶瓷片、熔体和灭弧玻璃层(1)组成,所述熔体位于陶瓷片表面,两个接线端子分别与熔体两端电连接,灭弧玻璃层(1)覆盖于所述熔体表面,其特征在于:所述灭弧玻璃层(1)为一灭弧玻璃片,此灭弧玻璃片(1)由硼硅酸铅玻璃组成,该灭弧玻璃片(1)与所述熔体接触的表面具有若干微纳米孔洞(2),该灭弧玻璃片(1)通过以下步骤获得:步骤一、在所述灭弧玻璃片(1)表面通过旋涂涂覆一压印胶层(3);步骤二、将下表面具有若干微纳米直径的凸点(4)的模具(5)压在所述压印胶层(3)上,此时,所述模具下表面与涂覆感光胶层接触,所述凸点的直径为20~500nm,高宽比为1:1~10;通过热压法或者紫外感光法使压印胶层固化;步骤三、将步骤二中所述模具(5)从压印胶层(3)表面移除;步骤四、采用干法离子刻蚀方法刻蚀经步骤三的所述灭弧玻璃片(1),从而在此灭弧玻璃片(1)表面形成若干所述微纳米孔洞(2),此微纳米孔洞(2)的直径为20~500nm;步骤五、清洗去除残留的所述压印胶层(3);所述压印胶层(3)由聚甲基丙烯酸甲酯组成;所述微纳米孔洞(2)之间的间隔为45~600nm。 【当前权利人】苏州晶讯科技股份有限公司 【当前专利权人地址】江苏省苏州市高新区培源路2号苏州科技城微系统园M3栋4楼 【专利权人类型】股份有限公司(非上市、自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】91320500673933534Y 【引证次数】4.0 【他引次数】4.0 【家族引证次数】5.0

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