【摘要】本发明公开了一种SiO2Al双材料复合梁的应力调整工艺,包括以下步骤:①在一块体硅表面淀积一层SiO2层;②对上述SiO2层采用离子注入工艺进行P型杂质注入;③采用炉管退火工艺进行退火;④采用蒸发或者溅射工艺,在SiO2层表面淀积一
【摘要】 本发明揭露一种手机遮阳帽, 包括一卡合件以及一遮阳件,所述卡合件卡制在手机的一端,所述遮阳件通过所述卡合件固定在手机上,所述卡合件为一截面呈U型的构件,所述遮阳件具有一上遮阳部以及二个相对的折叠部,所述上遮阳部一端转动地与所述卡合件连接,另一端为一自由端,所述二个相对的折叠部分别设置在所述上遮阳部的两侧,各折叠部一端固定在所述上遮阳部,另一端固定在所述卡合件上。借由上述结构,本发明的手机遮阳帽可为手机有效遮挡阳光,避免手机屏幕显示效果因阳光的直射而受到影响。 【专利类型】发明申请 【申请人】昆山研达电脑科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】215300 江苏省苏州市昆山市综合保税区第一大道加工区大厦300号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请人区县】昆山市 【申请号】CN201210405681.0 【申请日】2012-10-23 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103780720A 【公开公告日】2014-05-07 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】H04M1/02 【发明人】巨焕焕 【主权项内容】一种手机遮阳帽,其特征在于,包括:一卡合件以及一遮阳件,所述卡合件卡制在手机的一端,所述遮阳件通过所述卡合件固定在手机上。 【当前权利人】昆山研达电脑科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省苏州市昆山市综合保税区第一大道加工区大厦300号 【专利权人类型】有限责任公司(外国法人独资) 【统一社会信用代码】913205835678106101 【引证次数】4.0 【被引证次数】5 【他引次数】4.0 【被他引次数】5.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】5
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