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陶瓷真空继电器专利

时间:2026-09-30    作者:admin 点击: ( 1 ) 次

【摘要】 本发明公开了一种陶瓷真空继电器,包括陶瓷真空密封罩、线圈、静接触点、动接触片以及拨叉,所述静接触点、动接触片以及拨叉设于所述陶瓷真空密封罩内,所述拨叉表面涂覆有电镀层,可减少运动过程中的阻力。该陶瓷真空继电器的接触点和排气管均设于陶瓷真空密封罩的底面上,利于节约产品体积;同时采用无骨架线圈,可以有效减少线圈的面积,在相同体积条件下获得最大的安匝数;其动接触片增加环绕部分,提高弹性,同时可以获得良好的接触电阻和运动性能。 【专利类型】发明申请 【申请人】昆山国力真空电器有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】215301 江苏省苏州市昆山市开发区长江中路179号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请人区县】昆山市 【申请号】CN201210411010.5 【申请日】2012-10-25 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103779136A 【公开公告日】2014-05-07 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】H01H33/66 【发明人】覃奀垚; 黄浩; 贾冰冰; 余佳 【主权项内容】一种陶瓷真空继电器,包括陶瓷真空密封罩(1)、线圈(2)、静接触点、动接触片以及拨叉(4),所述静接触点、动接触片以及拨叉设于所述陶瓷真空密封罩内,其特征在于:所述拨叉表面涂覆有电镀层。 -官网 【当前权利人】昆山国力真空电器有限公司 【当前专利权人地址】江苏省苏州市昆山市开发区长江中路179号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91320583724173046J

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