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一种阵列孔低介电材料的制备方法专利

时间:2026-09-29    作者:admin 点击: ( 2 ) 次

【摘要】 一种阵列孔低介电材料制备方法,通过在低介电材料主体中引入微纳小球,使这些微纳小球经过自组装过程后具有一定的排布规则,然后去除小球,从而在材料主体得到规则排布的阵列孔。本发明所提供的利用自组装法制备的单层小球模板,尺寸和分布均匀且可控,薄膜的成型强度较高,性能均一,克服了一般多孔材料机械强度差,容易局部塌陷,各区域性能迥异的缺点。 【专利类型】发明授权 【申请人】苏州大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】215123 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请号】CN201210237364.2 【申请日】2012-07-10 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102730705B 【公开公告日】2014-11-05 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102730705B 【授权公告日】2014-11-05 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C01B33/20 【发明人】唐建新; 朱钧钧; 李艳青 【主权项内容】一种阵列孔低介电材料的制备方法,其特征在于,包括步骤:清洗基底;在所述基底上涂覆含有聚合物小球的溶液,对该涂覆的溶液进行溶剂挥发和自组装处理,使该聚合物小球规则排布在基底上;以酸性水解和碱性缩聚两步法制备硅酸盐溶胶,将该硅酸盐溶液旋涂在基底表面形成湿凝胶,该湿凝胶的厚度小于聚合物小球的直径;对该湿凝胶进行老化、干燥和热处理得到干凝胶;去除所述干凝胶中的聚合物小球,得到具有阵列孔的低介电材料,所述含聚合物小球的溶液为聚苯乙烯纳球溶液或者聚苯乙烯-聚甲基丙烯酸甲酯两嵌段共聚物的甲苯溶液,当聚合物小球溶液为聚苯乙烯纳球溶液时,该聚苯乙烯纳球的直径为100nm-500nm,该溶液的固含量为1%-10%,该溶液的涂覆采用滴涂的方式进行,当所述含聚合物小球的溶液为聚苯乙烯-聚甲基丙烯酸甲酯两嵌段共聚物的甲苯溶液时,该溶液的涂覆采用旋涂的方式进行。 【当前权利人】苏州大学 【当前专利权人地址】江苏省苏州市工业园区仁爱路199号 【统一社会信用代码】123200004660073435 【引证次数】2.0 【他引次数】2.0 【家族引证次数】7.0 【家族被引证次数】3

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