【摘要】 本发明公开了一种在医用镁合金表面制备二氧化钛活性膜层的方法，该方法首先采用磁控溅射法在镁合金表面生长纯钛膜，然后通过微弧氧化法在纯钛膜表面原位生长二氧化钛活性膜层。本发明方法制备的膜层具有多孔结构，膜层与镁合金基体结合紧密，且具有良好的生物活性、细胞亲和性及高耐蚀性。 （，） 【专利类型】发明授权 【申请人】淮阴工学院 【申请人类型】学校 【申请人地址】223001 江苏省淮安市清河区北京北路89号 【申请人地区】中国 【申请人城市】淮安市 【申请人区县】清江浦区 【申请号】CN201210317680.0 【申请日】2012-08-31 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102797010B 【公开公告日】2014-05-07 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102797010B 【授权公告日】2014-05-07 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C23C28/00 【发明人】周广宏; 丁红燕; 侯化龙; 刘爱辉; 章跃; 曹维克; 夏木建 【主权项内容】1.在医用镁合金表面制备二氧化钛活性膜层的方法，该二氧化钛活性膜层的制备包括以下几个步骤：(1)对医用镁合金表面进行打磨和机械抛光处理，经丙酮和无水乙醇清洗后，烘干待用；(2)采用直流磁控溅射法在医用镁合金表面生长一层纯钛膜；(3)通过微弧氧化法在纯钛膜表面原位生长二氧化钛活性膜层；(4)生长后的活性膜层经去离子水和无水乙醇依次清洗，晾干；所述的医用镁合金为纯Mg、Mg-Al-Zn或Mg-Zn-Ca系列镁合金；所述的磁控溅射用靶材为纯度不低于99.95%的纯钛；所述磁控溅射的工艺参数为：溅射气压0.3～0.6Pa，溅射功率30～150W，溅射时间5min～2h，溅射室的背底真空度优于6×10-5Pa，氩气流量20sccm；所述的纯钛膜薄膜的厚度为100nm～100μm；其特征在于：所述微弧氧化法是以长有纯钛膜的医用镁合金为阳极，不锈钢电解槽为阴极，采用直流单向脉冲电源对医用镁合金表面进行微弧氧化处理；所述微弧氧化的工艺参数为：正向加载电压范围200～420V，频率范围500～1500Hz，占空比30～60%，氧化时间2～10min；每升电解液由以下成分组成：10～15g/L硅酸钠，15～20g/L磷酸钠，2～4g/L氢氧化钠，其余为去离子水。 【当前权利人】淮阴工学院 【当前专利权人地址】江苏省淮安市清河区北京北路89号 【专利权人类型】公立 【统一社会信用代码】12320000466009787T 【被引证次数】1 【被他引次数】1.0 【家族被引证次数】7

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