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一种MOS器件的钝化层形成方法以及一种MOS器件专利

时间:2026-09-24    作者:admin 点击: ( 1 ) 次

【摘要】 本发明提供一种MOS器件的钝化层形成方法以及一种MOS器件。所述MOS器件的钝化层形成方法包括:形成衬底;在衬底上形成介质;图案化介质以露出部分衬底;在露出的衬底部分和介质上形成金属;在金属上形成正硅酸乙酯TEOS;在TEOS上形成磷硅玻璃PSG;以及在PSG上形成氮氧化合物。利用本发明,可以改善钝化层开裂的问题。 【专利类型】发明申请 【申请人】无锡华润上华科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214028 中国无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】江阴市 【申请号】CN201210260811.6 【申请日】2012-07-26 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103578919A 【公开公告日】2014-02-12 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】H01L21/02; H01L29/78; H01L27/092 【发明人】王者伟; 陈雪磊; 高留春; 刘斌斌; 赵宏星; 黄国民; 焦骥斌; 蒋龙 【主权项内容】一种MOS器件的钝化层形成方法,其特征在于,所述方法包括:形成衬底;在衬底上形成介质;图案化介质以露出部分衬底;在露出的衬底部分和介质上形成金属;在金属上形成正硅酸乙酯TEOS;在TEOS上形成磷硅玻璃PSG;以及在PSG上形成氮氧化合物。 : 【当前权利人】无锡华润上华科技有限公司 【当前专利权人地址】中国无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 【专利权人类型】有限责任公司(港澳台法人独资) 【统一社会信用代码】91320214739444443B 【引证次数】8.0 【他引次数】8.0 【家族引证次数】24.0

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