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一种生长氮化镓系薄膜的复合衬底及其制备方法和应用专利

时间:2026-09-21    作者:admin 点击: ( 6 ) 次

【摘要】 本发明涉及一种生长氮化镓系半导体薄膜的复合衬底及其制备方法和其应用,本方法通过在MOCVD磊晶生长氮化镓系薄膜前对传统的磊晶衬底即本发明所述的衬底,进行溅射镀膜处理,形成与氮化镓系薄膜更为匹配的复合衬底材料,用于生长氮化镓薄膜。 【专利类型】发明申请 【申请人】江苏汉莱科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】213000 江苏省常州市武进区凤林路55号 【申请人地区】中国 【申请人城市】常州市 【申请人区县】武进区 【申请号】CN201210393338.9 【申请日】2012-10-17 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103779449A 【公开公告日】2014-05-07 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】H01L33/00; H01L33/12; H01L33/32; H01S5/323; C23C14/35 【发明人】庄文荣; 孙明 【主权项内容】1.一种生长氮化镓系半导体薄膜的复合衬底,其特征在于包括衬底及两层AlN, 两层AlN分别位于衬底上下表面。 : 【当前权利人】江苏汉莱科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省常州市武进区凤林路55号 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】91320412550234987E 【引证次数】4.0 【被引证次数】8 【他引次数】4.0 【被他引次数】8.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】8

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