【摘要】本发明涉及一种消除光刻针孔危害的可控硅结构，包括可控硅片，其特征是所述可控硅片上生成有一次氧化层、二次氧化层和硼扩散穿通环，所述一次氧化层上光刻产生有多个一次针孔，所述每个一次针孔处无一次氧化层；所述二次氧化层覆盖于一次氧化层和一次
【摘要】 1.外观设计产品的名称：布(38)；2.外观设计产品的用途：用于制造各类纺织品；3.外观设计产品的设计要点：主视图所表示的图案；4.指定主视图为最能表明设计要点的图片；5.该外观设计产品为平面产品，其他视图无设计要点，省略其他视图；请求保护的外观设计包含色彩。 【专利类型】外观设计 【申请人】姜爱红 【申请人类型】个人 【申请人地址】226400 江苏省南通市如东县长沙镇陆河村六组7号 【申请人地区】中国 【申请人城市】南通市 【申请人区县】如东县 【申请号】CN201030276393.1 【申请日】2010-08-12 【申请年份】2010 【公开公告号】CN301460245S 【公开公告日】2011-02-09 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN301460245S 【授权公告日】2011-02-09 【授权公告年份】2011.0 【发明人】姜爱红 【主权项内容】无 【当前权利人】姜爱红 【当前专利权人地址】江苏省南通市如东县长沙镇陆河村六组7号
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