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一种离子植入机转盘及其清洗方法专利

时间:2026-07-01    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明提出了一种离子植入机转盘及其清洗方法,该离子植入机转盘包括第一转盘层、第二转盘层和碳化硅层。将该离子注入机转盘浸泡在NH4OH/H2O2/H2O的混合溶液中进行化学清洗,可以去除碳化硅层上附着的颗粒。本发明能减少转盘返回原厂处理的循环次数,大大提高了转盘的使用效率,降低了生产成本。 【专利类型】发明申请 【申请人】和舰科技(苏州)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】215025 江苏省苏州市苏州工业园区星华街333号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请人区县】吴中区 【申请号】CN201010001276.3 【申请日】2010-01-19 【申请年份】2010 【公开公告号】CN102129973A 【公开公告日】2011-07-20 【公开公告年份】2011 【IPC分类号】H01L21/265; B08B3/08 【发明人】王智权 【主权项内容】一种离子植入机转盘,其特征在于,包括第一转盘层和碳化硅层,碳化硅层在第一转盘层的上方,在离子植入时晶片置于碳化硅层上。。 【当前权利人】和舰科技(苏州)有限公司 【当前专利权人地址】江苏省苏州市苏州工业园区星华街333号 【专利权人类型】有限责任公司(中外合资) 【统一社会信用代码】91320594732513557J

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