【摘要】 本发明提供一种光纤涂覆层剥离方法及U型剥离器。该光纤涂覆层剥离方法，将光纤组放置于U型剥离器中，采用85％的硫酸、10％无水酒精和5％乙醚混合溶液腐蚀浸渍，再进行清洗。该U型剥离器上部带有一个溶液存放槽，在溶液存放槽下部连接一个U型反应槽。本发明可有效保证光纤涂覆层剥离后裸纤的完好度和光洁度，能有效保证光纤在极高的功率下的稳定性。 【专利类型】发明申请 【申请人】中国兵器装备研究院 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】102209 北京市昌平区北七家镇未来科技城南区中国兵器装备研究院 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】昌平区 【申请号】CN200810079033.4 【申请日】2008-12-30 【申请年份】2008 【公开公告号】CN107182264B 【公开公告日】2011-09-07 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN107182264B 【授权公告日】2011-09-07 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】G02B6/245 【发明人】李伟; 武子淳; 杨超; 陈曦; 郭盛刚; 纪帆; 杨宁; 王琦; 董海燕 【主权项内容】一种光纤涂覆层剥离方法，其特征在于：该方法采用如下步骤依次进行：(1)将数根等长度相同规格的光纤合为一组，确定光纤组需剥离涂覆层位置，以及确定需剥离涂覆层长度，通过固定夹片(4、7)将光纤组两端固定；(2)将步骤(1)的光纤组放置于U型剥离器中，光纤组待剥离涂覆层位置置于U型剥离器的U型反应槽(11)底端，左右按刻度对齐；所述的U型反应槽(11)的弯曲半径在150～200mm；(3)向步骤(2)放置在U型剥离器中的光纤组待剥离涂覆层位置处导入混合溶液以腐蚀剥离涂覆层，所述的混合溶液包括体积百分比在85％的硫酸、10％的无水酒精和5％的乙醚，混合溶液加入量为仅使光纤组需剥离涂覆层位置浸入混合溶液中；对于200～220μm直径的光纤需浸渍腐蚀20～30分钟，对于400～450μm的光纤需浸渍腐蚀2～3小时，对于600～650μm光纤需浸渍腐蚀5～6小时；(4)放掉U型剥离器中废液，先加入清水稀释光纤组已剥离涂覆层位置，再加入丙酮浸渍清洗光纤组已剥离涂覆层位置，最后加入酒精与乙醚体积比为3∶1的酒精与乙醚混合溶液浸渍清洗光纤组已剥离涂覆层位置；(5)从U型剥离器取出光纤组，观察光纤组剥除部分的涂覆层是否全部去除，若有残留必须去掉，如有极少量不易剥除的涂覆层，可用棉球沾适量酒精，边浸渍，边擦除。 【当前权利人】中国兵器装备研究院 【当前专利权人地址】北京市昌平区北七家镇未来科技城南区中国兵器装备研究院 【被引证次数】2 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】2

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