【摘要】 本发明涉及一种在钴块表面镀镍工艺，该工艺在钴块电镀前采用阳极电解的方法对钴块进行蚀刻、活化，采用的蚀刻、活化液为盐酸溶液，阴极为钛板或铅板，阳极为钴块；在钴块电镀时采用滚镀方法，镀液采用瓦特型镀液，以硫酸镍为主盐提供镍离子，阳极为镍板，阴极为钴块，滚镀电源采用双脉冲直流电镀电源。本发明工艺使钴块表面所镀的镍层附着强度高、粗糙度小、杂质元素含量低、均匀性好。 ： 【专利类型】发明申请 【申请人】中核北方核燃料元件有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】014035 内蒙古自治区包头市青山区456信箱 【申请人地区】中国 【申请人城市】包头市 【申请人区县】青山区 【申请号】CN200810077759.4 【申请日】2008-11-25 【申请年份】2008 【公开公告号】CN106507857B 【公开公告日】2011-07-27 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN106507857B 【授权公告日】2011-07-27 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】C25D5/18; C25D3/12; C25D5/00 【发明人】王玉岭; 邹本慧; 刘秀; 朱振平; 杨勇; 郭显凤; 魏东波 【主权项内容】1.一种钴块镀镍工艺，其特征在于：该工艺在钴块电镀前采用阳极电解的方法对钴块进行蚀刻、活化，采用的蚀刻、活化液为50～250m1/L的盐酸溶液，阴极为钛板或铅板，阳极为钴块，阴极与阳极的距离为20～150mm，电流密度为0.9～2A/dm2，蚀刻、活化温度为15～30℃，蚀刻时间为60～90s，活化时间为5～15s；在钴块电镀时采用滚镀方法，即将钴块与填料混合放入滚筒中，在镀液中实现滚镀，镀液采用瓦特型镀液，以硫酸镍为主盐提供镍离子，阳极为镍板，阴极为钴块，滚镀液温度为45～65℃，滚镀时间为30～60min，滚镀电源采用双脉冲直流电镀电源，电镀计时后，正向电流开5～10min后再开反向电流，正向电流密度为0.3～1A/dm2，反向电流密度为0.02～0.1A/dm2。 【当前权利人】中核北方核燃料元件有限公司 【当前专利权人地址】内蒙古自治区包头市青山区456信箱 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91150200114395995W 【被引证次数】3 【被自引次数】1.0 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】3

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