【摘要】 一种化学气相沉积装置及其喷头，其中喷头包括：第一子喷头和第二子喷头；所述第一子喷头的一侧具有第一进气口，第一子喷头的另一侧具有多个第一出气口；所述第二子喷头的一侧具有第二进气口，第二子喷头的另一侧具有多个第二出气口；所述第一子喷头嵌套在所述第二子喷头内壁且所述第一子喷头与所述第二子喷头能够相对于第一子喷头的中心轴方向移动。本发明提高了化学气相沉积的膜层均匀性。 【专利类型】发明申请 【申请人】无锡华润上华半导体有限公司; 无锡华润上华科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】滨湖区 【申请号】CN201010105799.2 【申请日】2010-01-28 【申请年份】2010 【公开公告号】CN102140629A 【公开公告日】2011-08-03 【公开公告年份】2011 【IPC分类号】C23C16/455; C23C16/52 【发明人】卜维亮; 李勇; 曾明 【主权项内容】一种化学气相沉积装置的喷头，其特征在于，包括：第一子喷头和第二子喷头；所述第一子喷头的一侧具有第一进气口，第一子喷头的另一侧具有多个第一出气口；所述第二子喷头的一侧具有第二进气口，第二子喷头的另一侧具有多个第二出气口；所述第一子喷头嵌套在所述第二子喷头内壁且所述第一子喷头与所述第二子喷头能够沿第一子喷头的中心轴方向上下移动。 【当前权利人】无锡华润上华半导体有限公司; 无锡华润上华科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号; 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 【专利权人类型】有限责任公司(外商合资); 有限责任公司(港澳台法人独资) 【统一社会信用代码】91320214714903842J; 91320214739444443B 【引证次数】2.0 【被引证次数】3 【他引次数】2.0 【被他引次数】3.0 【家族引证次数】2.0 【家族被引证次数】3

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