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半导体晶圆片的清洗设备专利

时间:2026-06-21    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本实用新型公布了一种半导体晶圆片的清洗设备,包括n个喷淋式预冲槽和高低冲水槽装置,喷淋式预冲槽和高低冲水槽装置依次交替设置,喷淋式预冲槽上还设置进水管。本实用新型简化了作业流程,避免可水污染,两个高低冲水槽可以通过升降装置可以交替的上升下降,循环利用水,节约了成本。 【专利类型】实用新型 【申请人】无锡春辉科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214024 江苏省无锡市南湖大道789号C幢三楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】滨湖区 【申请号】CN201020622795.7 【申请日】2010-11-25 【申请年份】2010 【公开公告号】CN201956324U 【公开公告日】2011-08-31 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN201956324U 【授权公告日】2011-08-31 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】H01L21/00; B08B3/00 【发明人】张春华; 张馨月 【主权项内容】一种半导体晶圆片的清洗设备,其特征在于包括n个喷淋式预冲槽(5)和高低冲水槽装置,喷淋式预冲槽(5)和高低冲水槽装置依次交替设置,喷淋式预冲槽(5)上还设置进水管(4),其中n为大于2的自然数。 【当前权利人】无锡春辉科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市南湖大道789号C幢三楼 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股) 【被引证次数】2 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】2

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