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圆片的光刻方法专利

时间:2026-06-21    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明公布了一种圆片的光刻方法,将圆片放入光刻机,光刻机的汞光灯强8~12mw/cm2、曝光时间3~6秒。本发明提高汞光灯的光强,大大降低了工作时间,提高了效率。 【专利类型】发明申请 【申请人】无锡春辉科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214024 江苏省无锡市南湖大道789号C幢三楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】滨湖区 【申请号】CN201010253479.1 【申请日】2010-08-13 【申请年份】2010 【公开公告号】CN101963764A 【公开公告日】2011-02-02 【公开公告年份】2011 【发明人】张春华; 张馨月 【主权项内容】一种圆片的光刻方法,其特征在于包括如下步骤:将圆片放入光刻机,光刻机的汞光灯强8~12mw/cm2、曝光时间3~6秒,所述圆片为匀胶后的硅片。 【当前权利人】无锡春辉科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市南湖大道789号C幢三楼 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股)

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