【摘要】 本发明提供一种能对大面积基板进行均匀蒸镀的镀膜源及其真空镀膜装置。镀膜源，具有容器部和加热装置，还具有：蒸发气流调节部，为多孔层状结构，用于控制蒸发气流的方向和分布；蒸镀顶板，所述蒸镀顶板上设置有均匀分布的喷射口，用于喷射蒸发气流。本发明通过多孔多层结构的蒸发气流调节部，最大限度地扩大了蒸镀顶板的蒸镀面积，使材料尽可能均匀地沉积在基板表面，从而达到大面积高均匀性蒸镀的效果。当本发明对OLED进行有机材料真空镀膜时，特别是针对较大面积基板进行镀膜时，能够获得良好的图案精度和膜厚均匀的镀膜层，以确保OLED均匀的发光性能和色彩平衡。。 【专利类型】发明申请 【申请人】无锡虹彩科技发展有限公司; 四川虹视显示技术有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214000 江苏省无锡市无锡国家高新技术产业开发区长江路34号地块科技创业园一区400室 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】江阴市 【申请号】CN201010587010.1 【申请日】2010-12-14 【申请年份】2010 【公开公告号】CN101988185A 【公开公告日】2011-03-23 【公开公告年份】2011 【IPC分类号】C23C14/26 【发明人】李金川; 李崇; 田朝勇 【主权项内容】镀膜源，具有容器部(4)和加热装置，其特征在于，还具有：蒸发气流调节部(5)，为多孔层状结构，用于控制蒸发气流的方向和分布；蒸镀顶板(6)，所述蒸镀顶板(6)上设置有均匀分布的喷射口(61)，用于喷射蒸发气流。。： 【当前权利人】无锡虹彩科技发展有限公司; 四川虹视显示技术有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市无锡国家高新技术产业开发区长江路34号地块科技创业园一区400室; 四川省成都市高新区(西区)科新西街168号 【专利权人类型】有限责任公司; 有限责任公司 【统一社会信用代码】; 91510100669686470D 【引证次数】8.0 【被引证次数】15 【他引次数】8.0 【被他引次数】15.0 【家族引证次数】8.0 【家族被引证次数】15

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