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一种薄膜磁阻传感器专利

时间:2026-06-18    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本实用新型涉及一种传感器,尤其是一种薄膜磁阻传感器,具体地说是一种用于磁场中电流、位置、移动角度,角速度等量检测的传感器。按照本实用新型提供的技术方案,所述薄膜磁阻传感器,包括种子层;参考层,位于种子层上,产生第一交换耦合场;非磁性隔离层,位于参考层上,将参考层与自由层相隔离;自由层,位于非磁性隔离层上,感应外磁场变化,并产生第二交换耦合场,所述第二交换耦合场与第一交换耦合场互相垂直。本实用新型磁滞小、测量精度和线性度高、线性范围可调、制作工艺简单、响应频率高、制造成本低及抗干扰能力强。 【专利类型】实用新型 【申请人】王建国; 薛松生 【申请人类型】个人 【申请人地址】214028 江苏省无锡市新区长江路7号科技园一区无锡微磁传感科技有限公司 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】江阴市 【申请号】CN201020217380.1 【申请日】2010-06-01 【申请年份】2010 【公开公告号】CN201697638U 【公开公告日】2011-01-05 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN201697638U 【授权公告日】2011-01-05 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】G01D5/12; G01D5/14 【发明人】王建国; 薛松生 【主权项内容】一种薄膜磁阻传感器,其特征是,包括种子层;所述种子层上设有参考层,所述参考层上设有非磁性隔离层;所述非磁性隔离层上设有自由层。 【当前权利人】王建国; 薛松生 【当前专利权人地址】江苏省无锡市新区长江路7号科技园一区无锡微磁传感科技有限公司; 【被引证次数】8 【被自引次数】1.0 【被他引次数】7.0 【家族被引证次数】8

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