【摘要】一种金属硅化物的清洗方法，包括：提供半导体衬底，所述半导体衬底包括硅表面区及介电层表面区，所述硅表面区上自下而上依次形成有金属硅化物、金属层及保护层，所述介电层表面区上依次形成有介电层、金属层及保护层；采用酸性氧化溶液对所述半导体衬
【摘要】 本发明公开了一种羟基二苯甲酮化合物的合成方法，其为：将式(III)所示结构的二卤代二苯甲酮、碱、水、有机溶剂、催化剂混合后加热至100～110℃下反应，得到二酚盐溶液，然后冷却过滤，用盐酸酸化滤液至pH值7以下，过滤得到式(I)白色沉淀；其中X为F、Br或Cl。该法降低了水解的温度，实现了常压操作，方法工艺简单，产品收率高，可达到90％以上，产物的单程转化率高，纯度好，操作方便，不需要特殊设备，适于工业化大生产，特别是产品纯度高，能满足PEK材料性能要求。 【专利类型】发明申请 【申请人】常州花山化工有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】213244 江苏省常州市金坛市薛埠镇花山集镇 【申请人地区】中国 【申请人城市】常州市 【申请人区县】金坛区 【申请号】CN201010581133.4 【申请日】2010-12-09 【申请年份】2010 【公开公告号】CN102093190A 【公开公告日】2011-06-15 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN102093190B 【授权公告日】2011-11-23 【授权公告年份】2011.0 【发明人】严留新; 汤浩; 窦昌平; 王大胜; 陈年海 【主权项内容】一种式(I)所示结构的羟基二苯甲酮化合物的合成方法，其特征在于将式(III)所示结构的二卤代二苯甲酮、碱、水、有机溶剂、催化剂混合后加热至100～110℃下反应，得到二酚盐溶液，然后冷却过滤，用盐酸酸化滤液至pH值7以下，过滤得到式(I)白色沉淀；其中X为F、Br或Cl。FDA0000037205960000011.tif 【当前权利人】江苏新瀚新材料股份有限公司 【当前专利权人地址】江苏省南京市六合区南京化学工业园区崇福路51号 【专利权人类型】港、澳、台 【统一社会信用代码】91320413769105151P 【被引证次数】3 【被他引次数】3.0 【家族被引证次数】3
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