【摘要】一种针阀热嘴冷却水套，包括前端冷却段(3)、后端固定段(4)、密封圈(2)、冷却水进水道(5)、冷却水出水道(6)，导热性性能好和高硬度的前端冷却段(3)和普通钢的后端固定段(4)为面接触，均镶嵌安装在凹模(1)内；在前端冷却段(3
【摘要】 本发明公开了一种去除光掩模光刻胶的方法，包括：将光掩模基片放在工艺腔内；用光刻胶去除液喷淋到光掩模基片上；将光掩模基片旋转；所述光刻胶去除液为臭氧溶于去离子水而得的臭氧去离子水；使前述的臭氧去离子水雾化并由一个喷嘴喷淋到光掩模基片上，将光刻胶分解为二氧化碳和水，从而脱离光掩模表面。本发明提供了一种安全的去除光掩模光刻胶的方法，该方法能解决困扰国际半导体行业的雾状缺陷问题，同时可以大幅度减少光掩模半导体生产工艺中硫酸和过氧化氢的排放，达到节能减排和环保的成效。 数据由整理 【专利类型】发明申请 【申请人】常州瑞择微电子科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】213022 江苏省常州市长江中路25号A座316 【申请人地区】中国 【申请人城市】常州市 【申请人区县】新北区 【申请号】CN201010176627.4 【申请日】2010-05-19 【申请年份】2010 【公开公告号】CN102253608A 【公开公告日】2011-11-23 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN102253608B 【授权公告日】2012-09-05 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】G03F7/32; G03F7/30 【发明人】金海涛; 徐飞; 吉保国; 王夏 【主权项内容】一种去除光掩模光刻胶的方法，包括：将光掩模基片放在工艺腔内；用光刻胶去除液喷淋到光掩模基片上；其特征在于：将光掩模基片旋转；所述光刻胶去除液为臭氧溶于去离子水而得的臭氧去离子水；使前述的臭氧去离子水雾化并由一个喷嘴喷淋到光掩模基片上，将光刻胶分解为二氧化碳和水，从而脱离光掩模表面。 【当前权利人】常州瑞择微电子科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省常州市长江中路25号A座316 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91320411674863216M 【引证次数】4.0 【被引证次数】1 【他引次数】4.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】1
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