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真空灭弧装置专利

时间:2026-06-04    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本实用新型公开了一种真空灭弧装置,包括屏蔽罩,该屏蔽罩内形成有容纳动触头和静触头的真空腔,屏蔽罩上设有供动触头和静触头的端部穿出的通孔,在各通孔外设有密封体,屏蔽罩的两端连接有法兰盘,屏蔽罩的外侧设有用于保护该屏蔽罩的壳体。 【专利类型】实用新型 【申请人】吴苏杭 【申请人类型】个人 【申请人地址】213126 江苏省常州市新北区春江镇百丈工业园352号 【申请人地区】中国 【申请人城市】常州市 【申请人区县】新北区 【申请号】CN201020635130.X 【申请日】2010-12-01 【申请年份】2010 【公开公告号】CN201877352U 【公开公告日】2011-06-22 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN201877352U 【授权公告日】2011-06-22 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】H01H33/664 【发明人】吴苏杭 【主权项内容】真空灭弧装置,其特征在于:包括屏蔽罩,该屏蔽罩内形成有容纳动触头和静触头的真空腔,屏蔽罩上设有供动触头和静触头的端部穿出的通孔,在各通孔外设有密封体,屏蔽罩的两端连接有法兰盘,屏蔽罩的外侧设有用于保护该屏蔽罩的壳体。 【当前权利人】吴苏杭 【当前专利权人地址】江苏省常州市新北区春江镇百丈工业园352号

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