【摘要】本实用新型涉及一种课桌垫装置, 尤其指中、小学 生课桌上使用的课桌垫装置。它主要是在桌垫的四角端下面分 别设有呈角框盒体式的定位夹, 该定位夹具有上、下板面, 两侧 形成的限位框板、上板面上向下伸出的一卡柱及一板面向向延 伸的一夹板
【摘要】 一种步进分析方法包括：产生一十字线光掩模， 包括第一及第二边角光掩模，用以遮蔽在晶片表面上的第一四 方形区，第三边角光掩模，用以遮蔽在晶片表面上的一第二四 方形区，其中第一四方形区大于第二四方形区，以及第四边角 光掩模，用以使得第三四方形区曝光，其中第三四方形区小于 第二四方形区；以及使用测量装置，根据十字线光掩模上重叠 曝光的边角，产生在晶片表面上进行十字线光掩模步进时的多 个对准调整值。 ： 【专利类型】发明申请 【申请人】世大积体电路股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】台湾省新竹科学工业园区 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN98115221.X 【申请日】1998-06-24 【申请年份】1998 【公开公告号】CN1239817A 【公开公告日】1999-12-29 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN1128464C 【授权公告日】2003-11-19 【授权公告年份】2003.0 【IPC分类号】H01L21/31; G03F9/00; H01L21/02; H01L21/027 【发明人】赖俊丞 【主权项内容】1.一种步进分析方法，用以在对一具有光致抗蚀剂覆盖的晶片表面进行 曝光时，作为分析一十字线光掩模的步进过程的方法，该步进分析方法包 括： 产生一十字线光掩模，包括： 一第一及第二边角光掩模，用以遮蔽在该晶片表面上的一第一四方形 区， 一第三边角光掩模，用以遮蔽在该晶片表面上的一第二四方形区，其中 该第一四方形区大于该第二四方形区，以及 一第四边角光掩模，用以使得一第三四方形区曝光，其中该第三四方形 区小于该第二四方形区；以及 使用一测量装置，根据该十字线光掩模上重叠曝光的边角，产生在该晶 片表面上进行十字线光掩模步进时的多个对准调整值。 【当前权利人】台湾积体电路制造股份有限公司 【当前专利权人地址】台湾省新竹科学工业园区 【被引证次数】3.0 【被他引次数】3.0 【家族被引证次数】4.0
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