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一种具有高磁电阻效应的磁性隧道结专利

时间:2026-05-31    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明提供了一种具有高磁电阻效应的磁性隧道结及其制备方法。磁性隧道结由底电极层、反铁磁层、钴铁合金、绝缘层、金属钌层、顶电极层组成。本发明采用二氧化硅基片,通过等离子体溅射或磁控溅射、分子束外延生长手段制备成磁性隧道结。本发明的优点在于:巧妙的利用金属钌层和绝缘层的组合,大幅度地提高隧道结在室温下的磁电阻效应。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京科技大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】100083北京市海淀区学院路30号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200410009937.1 【申请日】2004-12-02 【申请年份】2004 【公开公告号】CN100438115C 【公开公告日】2008-11-26 【公开公告年份】2008 【授权公告号】CN100438115C 【授权公告日】2008-11-26 【授权公告年份】2008.0 【IPC分类号】H01L43/08; H01L43/12; G11C11/15 【发明人】姜勇; 于广华; 王燕斌 【主权项内容】1、一种具有高磁电阻效应的磁性隧道结,其特征在于:由底电极层、反 铁磁层、钴铁合金、绝缘层、金属钌层、顶电极层7层金属膜组成;具体结 构为: 隧道结的最底层为1~20纳米厚的金属铜,称为底电极层; 从底往上第二层为10~20纳米厚的反铁磁的铱锰合金层; 从底往上第三层为铁磁性的钴铁合金,厚度为1~10纳米; 从底往上第四层为绝缘层三氧化二铝,厚度为1~2纳米,为耦合层; 从底往上第五层为铁磁性的钴铁合金,厚度为1~10纳米; 从底往上第六层为一层金属钌层,厚度为0.4~1纳米; 从底往上第七层为1~20纳米的金属铜,为顶电极层。 【当前权利人】北京科技大学 【当前专利权人地址】北京市海淀区学院路30号 【统一社会信用代码】121000004000022245 【引证次数】3.0 【他引次数】3.0 【家族引证次数】3.0

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