【摘要】 基于柔性紫外压模的曲面基底多相位微光学元件加工方法涉及微光学元件制作技术；该方法增加了以聚合物结构为掩模，应用干法刻蚀技术在基片上获得浮雕结构步骤，完成微细结构向硬质基板表面的图形传递，并且在压印步骤中，软压印模在压印过程所外加的预压力作用下发生弹性形变而弯曲成与被加工表面相近的形状，且变形量的大小可通过有限元仿真的方法计算得到，母板制作步骤中的压模母板表面微细结构的形貌与尺寸需要针对该形变量的大小对进行补偿设计，应用该方法可以实现单一材料曲面基底非聚合物硬质光学材料微光学元件的加工制作。 【专利类型】发明申请 【申请人】哈尔滨工业大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】150001黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号 【申请人地区】中国 【申请人城市】哈尔滨市 【申请人区县】南岗区 【申请号】CN200810063983.8 【申请日】2008-02-04 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101221358A 【公开公告日】2008-07-16 【公开公告年份】2008 【IPC分类号】G03F7/00; G03F7/20; G02B1/02; G02B1/00 【发明人】金鹏; 刘楠; 朱鹏; 谭久彬 【主权项内容】1.一种基于柔性紫外模的曲面基底多相位微光学元件加工的方法，具体包 括以下步骤：①应用微细加工技术制备用于加工曲面基底多相位或连续浮雕结构 微光学元件所需的微细结构压模母板；②应用注塑复制技术将母板表面浮雕结构 复制到软压印模表面上；③应用紫外压印技术将软压模上的浮雕结构压印到曲面 基板表面的聚合物上；其特征在于，该方法还包括以下步骤，④以聚合物结构为 掩模，应用干法刻蚀技术在基片上获得浮雕结构，完成微细结构向硬质基板表面 的图形传递，并且在步骤③中，软压印模在压印过程所外加的预压力作用下发生 弹性形变而弯曲成与被加工表面相近的形状，且变形量的大小可通过有限元仿真 的方法计算得到，步骤①中的压模母板表面微细结构的形貌与尺寸需要针对该形 变量的大小对进行补偿设计，应用该方法实现单一材料曲面基底非聚合物硬质光 学材料微光学元件的加工制作。 【当前权利人】哈尔滨工业大学 【当前专利权人地址】黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号 【统一社会信用代码】12100000400000456B 【被引证次数】25 【被自引次数】1.0 【被他引次数】24.0 【家族被引证次数】25

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