【摘要】本实用新型涉及制备纳米有序阵列模板的装置, 其结构是:在电解槽的侧面开一个有外螺纹的接口,将阳极设 计成可与接口紧密结合,这样使要腐蚀的金属片的一个平面完 全与电解液浸润,从而避免了阳极经长时间腐蚀易断裂的缺 陷。本实用新型构思巧妙
【摘要】 后视图与主视图对称,省略后视图。 【专利类型】外观设计 【申请人】上海贵冠文化用品有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】200052上海市江苏路876号 【申请人地区】中国 【申请人城市】上海市 【申请人区县】长宁区 【申请号】CN98312260.1 【申请日】1998-04-21 【申请年份】1998 【公开公告号】CN3103930D 【公开公告日】1999-02-24 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN3103930D 【授权公告日】1999-02-24 【授权公告年份】1999.0 【发明人】钱宗因 【主权项内容】无 【当前权利人】上海贵冠文化用品有限公司 【当前专利权人地址】上海市江苏路876号 【专利权人类型】国有企业 【统一社会信用代码】913101051322749948
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