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合成纳米有序阵列模板的装置专利

时间:2026-05-28    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本实用新型涉及制备纳米有序阵列模板的装置, 其结构是:在电解槽的侧面开一个有外螺纹的接口,将阳极设 计成可与接口紧密结合,这样使要腐蚀的金属片的一个平面完 全与电解液浸润,从而避免了阳极经长时间腐蚀易断裂的缺 陷。本实用新型构思巧妙,结构简单,使电解反应进行得安全, 可靠,有效。 【专利类型】实用新型 【申请人】中国科学院固体物理研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】230031安徽省合肥市1129信箱 【申请人地区】中国 【申请人城市】合肥市 【申请号】CN98242833.2 【申请日】1998-12-02 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2356043Y 【公开公告日】1999-12-29 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2356043Y 【授权公告日】1999-12-29 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】C25C7/02; C25C7/00 【发明人】程国胜; 李磊; 雷勇; 朱勇; 费广涛; 牟季美; 张立德 【主权项内容】 。1.??一种合成纳米有序阵列模板的装置,是由电解槽、阳极、阴极 组成的,其特征在于,在电解槽的一侧边开有一个有外螺纹的园形接口, 接口的外螺纹上是与其紧密配合的阳极;在电解槽内阴极和侧边的阳极 上都有电线接至电源。 【当前权利人】中国科学院固体物理研究所 【当前专利权人地址】安徽省合肥市1129信箱

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