【摘要】 本实用新型涉及一种铝质场致发光装置, 包括基 板、发光层、反光层、透明导电层、保护层, 基板上印有无机发 光粉和有机介质混合物, 形成发光层在发光层上镀有锡或铟, 形 成透明导电层, 并在透明导电层上制成反光层并贴有防紫外线 高透明薄膜。铝质场致发光器件性能稳定、耗电量极小、重量 轻、寿命长、亮度强, 夜间发光非常醒目, 同时, 还具有反光功能。 该发光器件在露天应用, 能够抗紫外线照射。 【专利类型】实用新型 【申请人】陈卫平 【申请人类型】个人 【申请人地址】100858北京市海淀区万寿路28号院51楼丁门3号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN98203995.6 【申请日】1998-04-30 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2335134Y 【公开公告日】1999-08-25 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2335134Y 【授权公告日】1999-08-25 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】G01J1/58; G01J1/00 【发明人】陈卫平 【主权项内容】1．一种铝质场致发光装置，包括基板(1)、发 光层(2)、透明导电层(3)、反光层(4)、保护层(6, 7)、逆变器(8)、电源(9)，其特征在于基板(1)上 印有无机发光粉和有机介质混合物，形成发光层(2) ，在发光层(2)上镀有锡或铟，形成透明导电层(3)， 在透明导电层(3)上涂刷反光漆制成反光层(4)并贴 有防紫外线高透明薄膜(5)。 【当前权利人】陈卫平 【当前专利权人地址】北京市海淀区万寿路28号院51楼丁门3号 【被引证次数】2.0 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】2.0

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