【摘要】亚微米光刻机光栅衍射同轴对准装置,属于对滤 波和照明结构的进一步改进。其特征是激光器发出的光经分光 镜,以水平方向射入胶接成滤波机构一体的小反射镜和反射棱 镜上,光刻机的光刻光和光栅标记的衍射光通过分区镀制各膜 系的滤波板,得到高透
【摘要】 省略其余视图。 【专利类型】外观设计 【申请人】陈__模 【申请人类型】个人 【申请人地址】610041四川省成都市人民南路四段28号化八院宣传部 【申请人地区】中国 【申请人城市】成都市 【申请人区县】武侯区 【申请号】CN98314970.4 【申请日】1998-01-24 【申请年份】1998 【公开公告号】CN3111419D 【公开公告日】1999-05-26 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN3111419D 【授权公告日】1999-05-26 【授权公告年份】1999.0 【发明人】陈模 【主权项内容】无 【当前权利人】陈__模 【当前专利权人地址】四川省成都市人民南路四段28号化八院宣传部
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