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【专利类型】外观设计【申请人】徐永哲【申请人类型】个人【申请人地址】200032上海市小木桥路360弄10号25室【申请人地区】中国【申请人城市】上海市【申请人区县】徐汇区【申请号】CN98311784.5【申请日】1998-02-11【申

【摘要】光刻机相位光栅离轴照明光学系统，属于半微米 至深亚微米光刻机离轴照明光学系统技术领域。其特征是聚光 镜与掩模板之间是一个与掩模面平行的相位光栅板，它的上下 表面分别刻有线宽相同、刻蚀深度相同的方向互相垂直线形光 栅，光栅方向与掩模图

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