【摘要】 亚微米光刻机调焦装置，属于光刻机自动调焦和 光学探测技术领域。其特征为：标记的成像光经被刻物体、小 物镜、反射镜，由分光镜分为两种，一路反射成像于四象限接 收器，另一路透射经柱面镜成像于CCD图象传感器，两路输 出离焦信号和目标偏置量送入单片机，控制压电陶瓷推动柔性 铰链，带动被刻物体作大位移或微位移移动，达到目标焦面位 置。具有调焦惯量小，速度快，范围大，精度高(优于0.1微 米)，可编程的特点。 -官网 【专利类型】实用新型 【申请人】中国科学院光电技术研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】610209四川省成都市双流350信箱 【申请人地区】中国 【申请人城市】成都市 【申请人区县】双流区 【申请号】CN98229444.1 【申请日】1998-09-03 【申请年份】1998 【公开公告号】CN2352976Y 【公开公告日】1999-12-08 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN2352976Y 【授权公告日】1999-12-08 【授权公告年份】1999.0 【IPC分类号】G03F7/207 【发明人】陈旭南; 胡松; 李东 【主权项内容】1、亚微米光刻机的调焦装置，照明光从光纤(6)射出，经聚 光透镜(7)、标记(8)、反射镜(9)和小物镜(10)成像于被刻物 体(1)上，光线经被刻物体(1)、小物镜(12)、反射镜(13)后， 由四象限接收器(15)接收，其输出的离焦信号经信号放大处理(18) 和A/D转换器(19)送入单片机(20)，由光刻机控制驱动工作台 (5)与承片台(2)之间的调焦执行机构动作，调整承片台(2)上 的被刻物体(1)处于主机物镜(11)要求的目标焦面位置，其特征 在于：标记(8)的成像光经被刻物体(1)、小物镜(12)、反射镜 (13)，再由分光镜(14)分为两路，一路反射光束成像于四象限接 收器(15)上，另一路透射光束成像于CCD图象传感器(17)上， 两路输出离焦信号经信号处理后都送入单片机(20)，根据需要加入 的目标偏置量，由主计算机(24)和单片机(20)自动控制压电陶 瓷(4)分别作大位移或微位移移动，从而推动柔性铰链(3)两臂 绕下端转动，带动被刻物体(1)作上下平动，达到主机物镜(11) 要求的目标焦面精确位置。 【当前权利人】中国科学院光电技术研究所 【当前专利权人地址】四川省成都市双流350信箱 【统一社会信用代码】12100000450811820A 【被引证次数】16.0 【被自引次数】8.0 【被他引次数】8.0 【家族被引证次数】16.0

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